Tấm bia bắn phá bằng đồng có độ tinh khiết cao – Hình vuông (4N-6N)

Mục tiêu phún xạ đồng độ tinh khiết cao – Hình vuông (4N-6N) Hình ảnh nổi bật

Mô tả ngắn gọn:

Thông số kỹ thuật sản phẩm
Tên sản phẩm: Mục tiêu bắn phá bằng đồng có độ tinh khiết cao
Tiêu chuẩn: ASTM F68 (Đồng điện tử không chứa oxy), ASTM B115, Độ tinh khiết ≥99,99% (4N-6N), Tuân thủ RoHS, Tuân thủ REACH
Vật liệu: C10100 (Đồng OFHC), C10200 (Đồng không chứa oxy), Đồng tinh khiết cao (4N/5N/6N)
Bề mặt: Được mài/đánh bóng chính xác, Ra ≤0,4 μm, có thể tùy chọn phủ lớp Indium/Thiếc lên tấm nền.
Kích thước: Từ 100mm × 100mm đến 600mm × 600mm (kích thước vuông tùy chỉnh) Độ dày: 3mm – 50mm
Độ tinh khiết: 99,99% – 99,9999%
Đặc điểm sản phẩm: Độ tinh khiết vượt trội với hàm lượng oxy và tạp chất thấp · Độ dẫn nhiệt và dẫn điện vượt trội · Cấu trúc hạt đồng nhất cho quá trình lắng đọng ổn định · Mật độ cao (>99,5% lý thuyết) · Độ bám dính màng và độ đồng nhất lắng đọng tuyệt vời · Ít tạo hạt · Tuổi thọ mục tiêu dài và tỷ lệ sử dụng cao
Lĩnh vực ứng dụng: Lớp kết nối bán dẫn, Pin mặt trời màng mỏng (CIGS/CdTe), Màn hình phẳng (TFT-LCD), Lớp phủ và gương quang học, Lớp phủ PVD trang trí, Lưu trữ dữ liệu từ tính, Linh kiện hàng không vũ trụ và ô tô, Phòng thí nghiệm nghiên cứu và phát triển.

Gửi email cho chúng tôi

Chi tiết sản phẩm

Thẻ sản phẩm

Mục tiêu phún xạ đồng có độ tinh khiết cao – Quy trình và Tuyên bố Đảm bảo Chất lượng

Các tấm bia bắn phá bằng đồng hình vuông của chúng tôi được sản xuất theo các tiêu chuẩn khắt khe cần thiết cho quá trình lắng đọng màng mỏng đáng tin cậy trong các quy trình phủ tiên tiến.
Quy trình sản xuất tuân theo một hệ thống hút chân không được kiểm soát chặt chẽ để duy trì độ tinh khiết cực cao và tính nhất quán của vật liệu:
●Lựa chọn nguyên liệu thô: Chỉ sử dụng catốt đồng điện phân đạt chứng nhận (≥99,99%) làm nguyên liệu ban đầu.
●Nấu chảy trong chân không: Nấu chảy bằng cảm ứng dưới chân không cao hoặc môi trường khí trơ giúp giảm thiểu sự hấp thụ oxy và các tạp chất dễ bay hơi.
●Đúc & Tinh luyện: Quá trình đông đặc định hướng có kiểm soát tạo ra các thỏi kim loại có thành phần đồng nhất và độ phân tách tối thiểu.
●Gia công nóng: Rèn hoặc ép nóng giúp đạt được mật độ gần lý thuyết và cấu trúc hạt mịn hơn.
●Gia công chính xác: Phay và mài CNC tạo ra các kích thước vuông vắn chính xác với bề mặt phẳng và song song.
●Hoàn thiện bề mặt: Quy trình đánh bóng nhiều bước mang lại bề mặt sáng bóng như gương, phù hợp cho việc sử dụng trong phòng sạch.
●Tùy chọn liên kết: Có thể sử dụng liên kết indium hoặc chất đàn hồi với tấm nền molypden/đồng để quản lý nhiệt.
●Làm sạch và đóng gói cuối cùng: Làm sạch bằng sóng siêu âm trong nước siêu tinh khiết, sau đó đóng gói chân không trong túi sạch hai lớp.

Hệ thống kiểm soát chất lượng

● Khả năng truy xuất nguồn gốc đầy đủ từ lô catốt nguyên liệu thô đến sản phẩm mục tiêu hoàn thiện
● Giấy chứng nhận vật liệu và báo cáo kiểm tra được cung cấp kèm theo mỗi lô hàng.
● Lưu giữ mẫu vật lưu trữ ≥3 năm để kiểm chứng bởi bên thứ ba (SGS, BV, v.v.)
● Kiểm tra 100% các thông số quan trọng:
• Độ tinh khiết và tạp chất (phân tích GDMS/ICP-MS; hàm lượng oxy điển hình <10 ppm)
• Đo mật độ (phương pháp Archimedes; ≥99,5%)
• Kích thước hạt và cấu trúc vi mô (kiểm tra luyện kim)
• Độ chính xác về kích thước (CMM; độ phẳng ≤0,05mm điển hình)
• Độ nhám bề mặt và các khuyết tật (máy đo độ nhám + kiểm tra bằng mắt thường)
● Các thông số kỹ thuật bên trong vượt quá yêu cầu của ASTM F68. Các đặc tính điển hình: Độ dẫn nhiệt >390 W/m·K, Điện trở suất <1,7 μΩ·cm, Tốc độ lắng đọng và chất lượng màng ổn định.
● Các quy trình tương thích với phòng sạch và cơ sở đạt chứng nhận ISO 9001:2015 đảm bảo mọi mục tiêu đều đáp ứng được nhu cầu khắt khe của các ứng dụng PVD hiện đại.